1月21日,據外媒報道,日本先進半導體製造商Rapidus與IBM合作在美國紐約州奧爾巴尼的納米技術綜合體製造了2nm GAA(全環繞柵極)晶體管原型晶圓。此次展示表明Rapidus和IBM具備製備2nm先進工藝芯片的實力。然而,從技術驗證成功到商業化量產還麵臨長期而困難的過程。
值得一提的是,Rapidus於2024年12月18日接收了首台在日本本土使用的EUV光刻機ASML NXE:3800E。試生產將在今年4月開始,在其位於北海道千歲市的IIM-1晶圓廠進行。